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特殊製程

 

VisEra是技術領先的光學解決方案供應商。全方位的特殊製程可以滿足客戶不同的元件設計,包含擴散片(Diffuser)、光譜儀(Spectrum Meter)、超穎透鏡(Meta-Lens)、生物識別感測器(Bio-sensor)等。技術涵蓋廣泛的應用,例如:手機、DNA測序等。

VVisEra具有領先的圖形化能力,可以將其分為三類:光刻技術(Lithography Process)、蝕刻技術(Etching Process)、掀離技術(Lift-off Process)。

針對光刻製程,VisEra擁有i-line(8/12吋晶圓) / DUV(12吋晶圓)光刻機台,灰階光罩(Gray Scale Mask Lithography)及奈米壓印技術(Nanoimprint Lithography , NIL)。灰階光罩可以支援非球面鏡圖像。奈米壓印技術則可使用於擴散片(Diffuser)和超穎透鏡(Meta-Lens)之應用。

 
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